Vishay推出先进的30 V N沟道MOSFET,进一步提升功率密度和能效

日期:2021-05-26      作者:Vishay(威世)    来源:Vishay(威世)
核心提示:Vishay推出先进的30 V N沟道MOSFET,进一步提升隔离和非隔离拓扑结构功率密度和能效

Vishay作为一家先进的半导体制造商,产品阵容非常强大,并且拥有着极为宽广的产品线,而Vishay也一直致力于产品创新以拓展新的产品领域,近日Vishay推出了一款新品。

Vishay推出先进的30 V N沟道MOSFET,进一步提升隔离和非隔离拓扑结构功率密度和能效


image.png

器件采用PowerPAK® 1212 8S封装,导通电阻低至0.95  mW,优异的FOM仅为29.8 mW*nC

宾夕法尼亚、MALVERN — 2021年5月25日 — 日前,Vishay Intertechnology, Inc.推出多功能新型30 V n沟道TrenchFET®第五代功率MOSFET---SiSS52DN,提升隔离和非隔离拓扑结构功率密度和能效。Vishay SilIConix SiSS52DN采用热增强型3.3 mm x 3.3 mm PowerPAK® 1212-8S封装,10 V条件下导通电阻仅为0.95  mW,比上一代产品低5 %。此外, 4.5 V条件下器件导通电阻为1.5  mW,而4.5 V条件下导通电阻与栅极电荷乘积,即MOSFET开关应用重要优值系数(FOM)为29.8  mW*nC,是市场上优值系数最低的产品之一。

SiSS52DN的FOM比上一代器件低29 %,从而降低导通和开关损耗,节省功率转换应用的能源。

SiSS52DN适用于同步整流、同步降压转换器、DC/DC转换器、开关柜拓扑结构、OR-ring FET低边开关,以及服务器、通信和RF设备电源的负载切换。MOSFET可提高隔离和非隔离拓扑结构的性能,简化设计人员两种电路的器件选择。

器件经过100 % RG和UIS测试,符合RoHS标准,无卤素。

SiSS52DN现可提供样品并已实现量产,供货周期为12周。

以上就是关于Vishay推出的先进的30 V N沟道MOSFET的相关介绍,可以了解到这款新品进一步降低了功耗,并且性能极为优异。了解更多新品相关信息,请持续关注OEL电子网,感谢大家的阅读。

 
标签: Vishay 威世 SiSS52DN
 
推荐文章